外国特許情報
投稿日：2021/02/10 知財情報
特許＆技術レポート 河 合同特許法律事務所/SEOUL TECHNO R&C CO.,LTD. 2021年2月号
- 2021年から新たに変わる知的財産制度
- ソフトウェア関連の商標出願時、「用途」の記載が必須
- 大法院2021.1.14.宣告2017HU1830［登録無効(特)］
- デジタルインプラント分野の特許出願、過去10年間に年平均12%増加
- OLED素材分野の特許出願、年平均5%増加
- 化学研究院の研究チーム、世界で初めて発見した「ナノ粒子の光の雪崩現象」とは